PR1161799_Zuschlagskriterien.pdf

Teilautomatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken

Extrahierter Dokumenttext · Stand: 15.09.2026, 13:16 (Europe/Berlin)

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Zuschlagskriterien PR1161799

Der Zuschlag für diese Ausschreibung gemäß den folgenden Kriterien erteilt:

Preis: 50% Technische Ausstattung: 25% Nachhaltigkeit: 25%

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