LV_418360.pdf

Teilautomatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken

Extrahierter Dokumenttext · Stand: 15.09.2026, 13:16 (Europe/Berlin)

Herkunft: www.deutsche-evergabe.de

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Positionsliste zum Verfahren

26.08.2026 11:01 Uhr

Verfahren

Auftraggeber Fraunhofer ENAS Aktenzeichen PR1161799_bw Titel teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken

Preisblatt

Pos. Typ Bezeichnung Menge Einheit

1.1. N Gesamtsumme/Total netto 1 psch

Typen: N = Normalposition, B = Bedarfsposition, G = Grundposition, A = Alternativposition

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