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Max-Planck-Institut für Vergabeverfahren Aktenzeichen Mikrostrukturphysik Electron Beam Evaporator MPG_MSP-2026-0002
Leistungsbeschreibung
Ausgangssituation und Zweck
Gegenstand dieses Leistungsverzeichnisses ist die Beschaffung, Lieferung, Montage und Inbetriebnahme einer modernen Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage (Electron Beam Evaporation System). Die Anlage wird für die präzise Abscheidung dünner Schichten im Hochvakuum eingesetzt. Ziel der Beschaffung ist es, die bestehenden Kapazitäten in der Forschung und Entwicklung / Produktion zu erweitern und höchste Schichtqualitäten bei reproduzierbaren Prozessen zu garantieren.
Projektziel
Mit dem zu beschaffenden System sollen anspruchsvolle Materialsysteme effizient und kontrolliert auf unterschiedliche Substrate aufgedampft werden. Gesucht wird eine schlüsselfertige Gesamtlösung, die dem aktuellen Stand der Technik entspricht, hohe Sicherheitsstandards erfüllt und eine intuitive Bedienung ermöglicht.
Technische Mindestkriterien
| No. | Item and Description |
|---|---|
| 1 | Basic system PVD platform Internal height: ≥ 500 mm The e-beam source is centrally positioned below the substrate for an optimized lift-off process. Suitable materials: Titanium (Ti) Chromium (Cr) Gold (Au) Silver (Ag) Aluminum (Al) Extended distance between source and substrate (around 400 mm). Possibility for optional glovebox integration with additional door. |
| 2 | Rotational substrate station Substrate size: 100 x 100 mm or Ø100 mm Rotation speed: up to 10 - 30 rpm |
| 3 | Substrate cooling system Passive cooling with thermo fluid and water |
| 4 | Substrate shutter Substrate shutter to effectively block unwanted deposition Electro-pneumatic actuator Material: stainless steel |
| 5 | Pumps 1 pc. Pre-vacuum pump up to 6 m³/h 1 pc. High-vacuum turbo molecular pump with 685 l/s Base pressure: ≤ 5E-7 mbar |
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Max-Planck-Institut für Vergabeverfahren Aktenzeichen Mikrostrukturphysik Electron Beam Evaporator MPG_MSP-2026-0002
| 6 | Vacuum gauge Full range high vacuum measurement system Range: from atmospheric pressure to 5E-9 mbar Position: measuring position close to substrate level |
|---|---|
| 7 | E-Beam source Voltage: up to 10 kV Current: up to 600 mA Power: up to 6 kW Position centered below the substrate |
| 8 | Pocket Volume: ≥ 7 cc Quantity: ≥ 4 |
| 9 | Single rate sensor 1 pc. Quartz crystal sensor (6 MHz) Water cooled |
| 10 | Thin Film Deposition Controller Frequency range: 1 to 6.5 MHz Frequency resolution: +/- 0.012 Hz @ 4 readings/sec Thickness resolution: 0.015 Å @ 4 readings/sec Rate reading: 0.01 Å/sec |
| 10 | Delivery Delivery time ≤ 10 months All delivery costs (shipping, packing, insurance, tariffs) included |
| 11 | Software Windows based PC-Control |
| 12 | Installation Installation and commissioning of the system Instruction of the operating personnel |
| 13 | Length of Warranty ≥ 24 months |
Dem Angebot muss in einem separaten Anhang eine detaillierte technische Spezifikation beigefügt werden. Komponenten oder Funktionen, deren Eigenschaften angefordert werden, müssen vollständig in der detaillierten technischen Spezifikation aufgeführt sein.
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Max-Planck-Institut für Vergabeverfahren Aktenzeichen Mikrostrukturphysik Electron Beam Evaporator MPG_MSP-2026-0002
Zahlungs- und Lieferbedingungen
Lieferzeit: schnellstmöglich, max. Lieferzeit 10 Monate nach Auftragserteilung
Wir bitten um Angabe der Lieferzeit im Angebot.
Zahlungsbedingungen: 40% bei Auftragserteilung - Anzahlung (nur gegen Gestellung einer Anzahlungsbürgschaft in entsprechender Höhe; die Bürgschaft muss selbstschuldnerisch, zeitlich unbefristet und unter Verzicht auf die Einreden der Anfechtung, Aufrechenbarkeit und der Vorausklage von einer deutschen oder europäischen Bank oder einem in der EU zugelassen Kreditversicherer ausgestellt sein.) 40% nach erfolgter, vollständiger Lieferung 20% nach Installation und Abnahme
oder
90% nach Lieferung 10% nach Installation und Abnahme
Vertragsbedingungen
Es gelten die Vertragsbedingungen der Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V.
Zusätzliche Angaben:
Wir behalten uns vor den Auftrag auf Grundlage des Erstangebotes, ohne in Verhandlung zu treten, zu vergeben (§12 Abs.4 UVgO).
| Ort | Datum |
|---|---|
| Name des Unternehmers | Unterschrift |
| Name des Unterzeichners in Druckbuchstaben |